光刻機

簡述 : 光刻機又叫掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是製造芯片的核心裝備。光刻，也被稱為光學平版刻法或紫外光刻，是一種在薄膜或基板（也被稱為「晶圓」）上對零件圖形化的精密加工工藝。其實就是一種將圖紙上的零件圖通過類似照片沖印的技術印製到矽片上的機器。簡單來說，光刻機就是通過一系列的光源能量、形狀控製手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小後映射到矽片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1的，也有4:1的。然後使用化學方法顯影，得到刻在矽片上的電路圖（即芯片）。